Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Boron impurity at the Si/SiO_{2} interface in SOI wafers and consequences for piezoresistive MEMS devices
Karlstads universitet, Fakulteten för teknik- och naturvetenskap, Avdelningen för fysik och elektroteknik. Karlstads universitet, Fakulteten för teknik- och naturvetenskap, Materialvetenskap.ORCID-id: 0000-0003-1711-5595
Vise andre og tillknytning
2009 (engelsk)Inngår i: Journal of Micromechanics and Microengineering, ISSN 0960-1317, E-ISSN 1361-6439, Vol. 19, nr 1, s. 1-6Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert)
sted, utgiver, år, opplag, sider
2009. Vol. 19, nr 1, s. 1-6
HSV kategori
Forskningsprogram
Fysik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:kau:diva-9819OAI: oai:DiVA.org:kau-9819DiVA, id: diva2:493326
Tilgjengelig fra: 2012-02-08 Laget: 2012-02-08 Sist oppdatert: 2017-12-07bibliografisk kontrollert

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Personposter BETA

Svensson, Krister

Søk i DiVA

Av forfatter/redaktør
Svensson, Krister
Av organisasjonen
I samme tidsskrift
Journal of Micromechanics and Microengineering

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 132 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf